用提高鍍膜溫度的方法來提高MLCC專用離型膜的吸附能力。在真空鍍膜技術(shù)中可以通過將基底溫度加熱到300℃來提高M(jìn)gF：膜的穩(wěn)定性。眾所周知，利用TiCI。和Si(OCH3).蒸氣在加熱到200-250℃玻瑞表面上分解生成的TiO：和Si0，薄膜具有特別高的牢固強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性。

離型膜熱處理具有很大的實(shí)際意義，例如，在350℃下加熱處理的薄膜強(qiáng)度和耐水蒸氣的破壞能力比在100-120℃下加熱的薄膜高5-8倍。加熱溫度的影響對真空被膜也是如此。例如，MgF，鍍膜后加熱到270-400℃可以大大提高其化學(xué)往定性。

獲得薄膜牢固性的主要因素之一是被鍍零件表面的清潔，通常在玻璃表面上存在某種表面層，該表面層是由于玻璃與濕空氣、清擦溶液以及在對中心磨邊過程中產(chǎn)生的，這種表面層具有一定的孔涼度，因此，它有可能吸附著室內(nèi)經(jīng)常存在的油和漆燕氣，膜層內(nèi)存在這些物質(zhì)會阻礙薄膜與玻璃表面的化學(xué)結(jié)合。

此外，新拋光表面在清洗上膠火漆時可能被高沸點(diǎn)的甲苯或其他溶荊所污染，這種高沸點(diǎn)溶劑不易從污染層孔晾中除掉，因而在鍍膜時會降低薄膜與鍍件的結(jié)合能力，以致形成棍濁而散射的薄膜。所以必須仔細(xì)地將玻瑞表面進(jìn)行脫脂。在真空鍍膜中zui為有效的方法是離子表擊，在離子轟擊過程中可以將艘件表面所吸附的水氣和其他物質(zhì)釋放出來。

此外，鍍件的預(yù)先加熱對清除玻瑞表面與薄膜的中間層起著決定性作用，這對不能進(jìn)行離子轟擊的化學(xué)鍍膜是十分有益的。

對薄膜高溫?zé)崽幚砗湾兗砻婕訜嵋约皩Ρ∧た紫队酶鞣N化合物密閉的方法進(jìn)行了研究并制訂了干涉膜的保護(hù)方法，該方法是將用烴氛基有機(jī)物水解所獲得的TiO：和SiO2膜在溶化的蜂蠟中處理。這個方法可以用于在氣態(tài)中或硅有機(jī)物高溫分解中所獲得的氧化膜。在工業(yè)中該法目前用于單層，雙層和三層增透膜的保護(hù)，其膜層為欽、桔、拾和硅的氧化物。

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